افزايش بازده تولید هماهنگ دوم اپتیکی در ساختارهای بلور فوتونی یک بعدی غیر خطی از اهمیت زیادی در مخابرات نوری برخوردار است. در راستای تحقق این هدف بهره گیری از روش ماتریس انتقال غیر خطی و لایه‌های فروالکتریک با قطبش‌های قرینه یکدیگر پیشنهاد گردیده است. نتایج حاصل از این تحقیق بیانگر افزوده شدن بسیار قوی در بازده تولید هماهنگ دوم اپتیکی در ساختارهای بلور فوتونی غیر خطی با لایه نقص است که می‌تواند پنجره جدیدی در زمینه اپتیک غیر خطی و ارضاء مفید شرایط تطبیق فازی گشاید
کلید واژگان :
بلور فوتونی یک بعدی غیر خطی، هماهنگ دوم اپتیکی، شرایط تطبیق فازی
