چکیده :

رسوب شیمایی بخار و رسوب فیزیکی بخار روشهای کاربردی در کلیه علوم هستند که با توجه به گسترش فناوریها و مخصوصاً صنایع الکترونیک و مدارهای مجتمع، بهکارگیری این روشهای بخار بهصورت فراوان در ساخت قطعات نیمههای میباشد. در این گزارش بهصورت مختصر به رسوبشیمیایی بخار پرداختهشده است.

کلید واژگان :

رسوبشیمیایی بخار، رسوب فیزیکی بخار، CVD ، PVD



ارزش ریالی : 150000 ریال
دریافت مقاله
با پرداخت الکترونیک