چکیده :

رسوب شیمایی بخار و رسوب فیزیکی بخار روشهاي کاربردي در کلیه علوم هستند که با توجه به گسترش فناوريها و مخصوصاً صنایع الکترونیک و مدارهاي مجتمع، بهکارگیري این روشهاي بخار بهصورت فراوان در ساخت قطعات نیمههاي میباشد. در این گزارش بهصورت مختصر به رسوبشیمیایی بخار پرداختهشده است.

کلید واژگان :

رسوبشیمیایی بخار، رسوب فیزیکی بخار، CVD ، PVD



ارزش ریالی : 150000 ریال
دریافت مقاله
با پرداخت الکترونیک